RONNEY Maska nawilżająca – kwas hialuronowy
Maska do włosów z kompleksem kwasu hialuronowego doskonale nawilża i odbudowuje suche i zniszczone włosy. Wyjątkowa formuła na bazie kompleksu kwasu hialuronowego. Doskonale nawilża i odbudowuje suche i zniszczone włosy.
Sposób użycia:
Nałóż maskę na wilgotne włosy, pozostaw na około 5 minut, a następnie obficie spłucz włosy.
Składniki:
Aqua, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Sodium Hyaluronate, Dmdm Hydantoin, Parfum, Glyceryl Stearate, Cyclopentasiloxane, Dimethicone, Ethylhexyl Palmitate, Citric Acid
